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• 印染水质平衡剂
  M-1075P 阴
  

  

  

  适用于各类纤维织物的湿加工工艺。

  在不同pH条件下均有优异的的螯合、分散性能；能有效分散前处理浴中的残留物（浆料，低聚物等）；具有活性皂洗白底防沾和皂洗效果；无磷。

  工艺用量：间歇式1~2g/L，连续式2~4g/L

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• 印染水质平衡剂
  M-175 阴
  

  

  

  适用于织物退浆及各种织物前处理、增白、染色、印花等加工工艺。

  耐酸、 碱、氧化剂、还原剂，无泡。适用范围广，螯合分散性能佳，兼具优良的净洗性和白底防污性，无磷，突出的胶体保护功能，高温稳定性优异。  工艺用量：间歇式1-2g/L,连续式2-4g/L

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• 印染水质平衡剂
  M-2112 阴
  

  适用于织物退浆及各种织物前处理、增白、染色、印花等加工工艺。

  适合于任何需要改善水质的工序中，耐强碱，具有良好的螯合分散和胶体保护功能，高浓产品。

  工艺用量：间歇式0.2-0.5g/L,连续式0.5-2g/L

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• 印染水质平衡剂
  M-2116 阴
  

  适用于印染加工中改善水质。

  高耐碱性，特别适合于河水、回用水、高硬度水等水质，对铁离子及其它重金属离子螯合分散性能优异，高浓产品。 工艺用量：间歇式0.2-0.5g/L,连续式0.5-2g/L

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• 光洁与抛光酶
  CSL-B 
  

  

  适用于天然棉纤维织物去除表面绒毛的抛光处理。
  经抛光处理织物手感 更加柔软光滑，提高织物的悬垂性，织物的光泽与色泽明显提高。
  常规浸渍用量：1-2%(o.w.f)

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• 抛光酶
  M-600 非
  

  

  适用于各类纤维素纤维织物，去除表面绒毛的抛光处理。

  经抛光处理织物手感更加柔软光滑，提高织物的悬垂性，织物的光泽与色泽明显提高。特别适用于人棉类具有皮芯结构的再生纤维素纤维织物的抛光。

  常规浸渍用量：1-3% (o.w.f)

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• 抛光酶
  M-651 
  

  适用于各类纤维素纤维织物去除表面绒毛的抛光处理。

  经抛光处理的织物手感更加柔软光滑，提高织物的悬垂性，织物的光泽与色泽明显提高。特别适用于天丝、莫代尔织物砂洗缸内抛光。

  常规浸渍用量：1-3% (o.w.f)

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• 同浴精练染色剂
  M-191A 非
  

  用于棉和人棉纤维织物间歇式精练染色同浴处理。

  优良的精练性能，可缩短工艺流程。

  工艺用量：1.5-2.5g/L

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• 高效低浴比匀染剂
  M-202B 弱阴/非
  

  适用于超细旦聚酯纤维及其混纺织物染色的匀染剂。

  优异的缓染、分散、移染和透染能力，染色中不会产生白芯。优异的除油、乳化性能，防止残留油剂聚集、返沾。硬水和通常浓度的电解质中稳定，低泡。

  常规浸渍用量：0.4-0.8% (o.w.f)

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• 高效低浴比匀染剂
  M-206A 弱阴/非
  

  

  

  适用于超细旦聚酯纤维及其混纺织物染色的高浓分散匀染剂。

  良好的缓染、 移染能力，分散性优异，消色性小，可减少齐聚物产生， 一定的除油性、 乳化性，低泡，耐盐。

  工艺用量：0.3-0.8g/L

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